材料データベース

シリコン単結晶 (ウェハ)

シリコン単結晶 (ウェハ)とは、セラミックの材料です。半導体産業の基盤材料。

SEMI M1

最終更新:

2.33 g/cm³比重(密度)
1200 °C最高使用温度
1100 HV硬さ

アルミナセラミック・ジルコニアセラミック・窒化珪素セラミックとの違い

材料名を押すと、その材料のページに移動します。

シリコン単結晶 (ウェハ)このページアルミナセラミック (96%)ジルコニアセラミック窒化珪素セラミック (Si3N4)
引張強さ—260 MPa900 MPa800 MPa
硬さ1100 HV1600 HV1200 HV1600 HV
線膨張係数2.6 µm/m·K7.2 µm/m·K10.5 µm/m·K3.2 µm/m·K
熱伝導率150 W/m·K24 W/m·K2 W/m·K30 W/m·K
最高使用温度1200 °C———
密度2.33 g/cm³3.95 g/cm³6.05 g/cm³3.2 g/cm³

「—」は材料データベースに値が載っていない項目です。

特徴と用途

材料としての特徴

  • 半導体産業の基盤材料
  • 高純度(11N以上可能)
  • 優れた熱伝導性
  • 赤外透過(1.1µm以上)
  • MEMS基板としても使用

主な用途

  • 半導体ICウェハ
  • MEMS基板
  • 赤外光学窓
  • X線モノクロメーター
  • 太陽電池

選び方

半導体・MEMSの基板材料として必須。赤外光学窓にも使用。

メリット

  • 超高純度
  • 熱伝導
  • 加工精度
  • 赤外透過

デメリット

  • 脆い
  • 可視光不透過

一般的な特性に基づく参考情報です。実際の性能は製造条件・使用環境により異なる場合があります。

物性値

公的規格・技術資料をもとにした参考値です。

規格

SEMIM1

熱的性質

項目値条件
最高使用温度1200 °C—
線膨張係数2.6 µm/m·K—
熱伝導率150 W/m·K—

物理的性質

密度2.33 g/cm³

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加工・規制・注意

規制適合

RoHS適合REACH適合

出典・ご利用上の注意

  • 2025-12-07

本ページの物性値・特性情報は、JIS・ISO・ASTM等の公的規格およびメーカー技術資料を参照した参考情報です。実際の材料選定・使用にあたっては、必ず材料メーカーの公式データシートをご確認の上、専門家にご相談ください。 本データベースは、設計・開発段階での材料比較・選定にお役立ていただけるよう、幅広い材料の物性情報を掲載しています。図面加工のご依頼やおすすめ材料のご提案は、お気軽に お問い合わせ ください。

※ 本ページに記載の商標は各社の登録商標または商標です。Inconel®, Monel®は Special Metals Corporation、Hastelloy®は Haynes International, Inc.、Vespel®, Kapton®, Kalrez®, Kevlar®は DuPont、Delrin®は TJC、Teflon™, Viton™は The Chemours Company、ジュラコン®は ポリプラスチックス株式会社、MCナイロン®は 三菱ケミカルアドバンスドマテリアルズ株式会社の商標です。

図面加工のご依頼やおすすめ材料のご提案は、お問い合わせください。

よくある質問

シリコン単結晶 (ウェハ)の密度(比重)は?

シリコン単結晶 (ウェハ)の密度(比重)は2.33 g/cm³です。

シリコン単結晶 (ウェハ)の最高使用温度は?

シリコン単結晶 (ウェハ)の最高使用温度は1200 °Cです。

シリコン単結晶 (ウェハ)の熱伝導率は?

シリコン単結晶 (ウェハ)の熱伝導率は150 W/m·Kです。

シリコン単結晶 (ウェハ)の線膨張係数は?

シリコン単結晶 (ウェハ)の線膨張係数は2.6 µm/m·Kです。

シリコン単結晶 (ウェハ)の硬さは?

シリコン単結晶 (ウェハ)の硬さは1100 HVです。

シリコン単結晶 (ウェハ)の主な用途は?

シリコン単結晶 (ウェハ)は、半導体ICウェハ、MEMS基板、赤外光学窓などに使われます。

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MAKERZ 材料データベース https://www.makerz.co.jp/material_database/materials/siliconsinglecrystal.html

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